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　国立研究開発法人 産業技術総合研究所【理事長 中鉢 良治】（以下「産総研」という）ナノチューブ実用化研究センター【研究センター長 畠 賢治】CNT評価チーム 中島 秀朗 産総研特別研究員、森本 崇宏 主任研究員、岡崎 俊也 研究チーム長（兼）同研究センター 副研究センター長らは、国立研究開発法人 新エネルギー?産業技術総合開発機構【理事長 石塚 博昭】（以下「NEDO」という）のプロジェクトの成果をもとに、産総研 ナノ材料研究部門【研究部門長 佐々木 毅】炭素系薄膜研究グループ 山田 貴壽 主任研究員、沖川 侑揮 主任研究員、九州大学【総長 久保 千春】グローバルイノベーションセンター【センター長 中島 寛】（以下「九大GIC」という）新エネルギー領域 吾郷 浩樹 教授らと共同で、微弱信号を高効率に検出できるロックイン赤外線発熱解析法を用いて大面積グラフェン膜のさまざまな微細な欠陥構造を高速?高精度で可視化できるイメージング評価技術を開発しました。
　多様な分野での活用が期待されるグラフェンは、近年化学気相蒸着（颁痴顿）法による大面积化が进められています。しかしながら、一般に颁痴顿法で合成されたグラフェンにはさまざまな欠陥构造が存在するため、电気特性が大きく低下してしまうという课题がありました。今回开発した技术により、电圧をかけた时に発生するジュール热を高効率に検出して、グラフェンの电気特性を低下させる要素を、炭素-炭素结合の切断といった原子レベルの构造の乱れで构成される结晶粒界（ドメインバウンダリー：顿叠）のような微细な欠陥まで、数分程度で识别できるようになりました。大面积のグラフェンに存在するごく小さな欠陥を迅速に可视化する评価ツールとして今后の研究开発への贡献が期待されます。
　なお、この成果は2019年2月1日（米国東部標準時間）にScience Advancesにオンライン掲載されました。

ロックイン赤外线発热解析法を用いたグラフェン欠陥构造イメージングの概念図